露光
半導体をはじめとするさまざまな工程において、微細なパターンを精密に形成するための核心技術です。
高解像度かつ均一な照度により、次世代の精密製造技術を支援します。
応用分野
フォトマスク
光を用いてウェハ（半導体基板）に回路を形成する工程において、マスクに描かれたパターン部分を選択的に露光し、ウェハ表面に回路パターンを転写する作業であり、半導体製造工程には欠かせない工程です。
半導体
露光技術は主に半導体製造分野で広く使用されています。これらの技術を通じて、半導体チップ内部にさまざまな回路や構造を精密に形成し、緻密なパターンを作り出すことが可能です。
これにより、コンピューター、スマートフォン、タブレットなどの電子機器に使用される半導体チップの性能を向上させ、多様な機能の実現を可能にし、電子製品の性能改善と技術革新に貢献します。
ディスプレイ
フォトリソグラフィは、ディスプレイのピクセルの明るさを制御する主要な半導体素子であるTFT（薄膜トランジスタ）に精密な回路パターンを形成するために使用され、ディスプレイの鮮明さを実現する重要な役割を果たします。
この重要な工程において、光を使った露光プロセスは不可欠なステップです。
医療
生体や細胞の微細な組織構造を分析・診断したり、DNAシーケンシングなどの研究に活用されており、医療用画像装置や医療機器の開発にも貢献しています。
光学製造およびレンズ生産
精密な光学システムの製造に不可欠な技術であり、レンズやレンズアレイの製造に使用され、さまざまな光学製品を生み出しています。
PCB（プリント回路板）
半導体製造だけでなく、PCBをはじめとする様々な産業分野で活用されています。レーザー、光ファイバー、LED、PCBなどの製造にも活用されており、光学的な素子や機器製作など、精密なイメージ形成が求められる場所で重要な役割を果たします。
