曝光
该技术是在包括半导体在内的众多工艺中，用于精确形成精细图案的关键工艺之一。高分辨率和均匀照明支持下一代精密制造技术。
应用领域
光掩膜（Photomask）
通过使用光线在晶圆（半导体基板）上形成电路图案的过程中，选择性地曝光绘有图案的掩膜区域，使其在晶圆表面形成电路结构，是半导体生产流程中不可或缺的关键环节。
半导体
曝光技术广泛应用于半导体制造领域，用于形成芯片内部的精密电路与结构图案。此技术可提升计算机、智能手机、平板电脑等电子设备中半导体芯片的性能与功能，推动电子产品的性能提升与技术创新。
显示面板
光刻技术在TFT（薄膜晶体管）等关键半导体元件中形成精细电路图案，对调节显示屏像素亮度和提升画质清晰度起着至关重要的作用。该过程中，基于光的曝光步骤是不可或缺的核心环节。
医疗
用于分析和诊断生物体或细胞的微观结构，也应用于DNA测序等研究领域，助力医疗影像设备与各类医疗器械的开发。
光学制造与镜头生产
是制造精密光学系统的关键技术，广泛应用于镜头和镜头阵列的生产中，可实现多种光学产品的高精度加工。
PCB（印刷电路板）
光刻技术也用于电路板制造，通过精准图案转移实现高速、高质量的电路设计，是电子制造业中不可或缺的一环。
