노광
반도체를 비롯한 여러 공정에서 미세한 패턴을 정밀하게 형성하는 핵심 기술입니다. 높은 해상도와 균일한 조도로 차세대 정밀 제조 기술을 지원합니다.
활용 분야
포토마스크
빛을 사용하여 웨이퍼(반도체 원판)에 회로를 형성하는 과정을 통해, 마스크에 패턴이 그려진 영역을 선택적으로 조사하여 웨이퍼 표면에 회로 패턴을 그려 넣는 작업으로 반도체 생산공정에 반드시 필요합니다.
반도체
노광 기술은 주로 반도체 제조 분야에서 널리 사용됩니다. 이러한 기술을 통해 반도체 칩 내부의 다양한 회로와 구조를 형성하고 정교하게 패턴을 만들어내게 됩니다.
이를 통해 컴퓨터, 스마트폰, 태블릿 등의 전자기기에 사용되는 반도체 칩의 성능을 향상시키거나 다양한 기능을 구현할 수 있으며, 전자제품의 성능 개선과 혁신에 기여합니다.
디스플레이
포토리소그래피는 디스플레이의 픽셀 밝기를 조절하는 핵심 반도체 소자인 TFT(박막 트렌지스터)에 세밀한 회로 패턴을 형성하여 디스플레이의 선명도를 만드는데 중요한 역할을 하며, 이런 중요한 공정 과정에서 빠질 수 없는 단계가 바로 빛을 이용한 노광 과정입니다.
의료
생명체나 세포의 미세한 조직 구조를 분석하고 진단하거나 DNA 시퀀싱 등의 연구에 활용되며, 의료 영상 장비나 의료 기기의 개발에 기여합니다.
광학 제조 및 렌즈 생산
정교한 광학 시스템의 제작에 필수적인 기술로, 렌즈 및 렌즈 어레이 제조에 사용되며 다양한 광학 제품을 만들어냅니다.
PCB
반도체 제조뿐만 아니라 PCB 등 다양한 산업 분야에서 활용됩니다.
레이저, 광섬유, LED, PCB 등의 제조에도 활용되며, 광학적인 소자와 기기 제작 등 정밀한 이미지 형성이 필요한 곳에서 중요한 역할을 합니다.
